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Improved deep-etched multilayer grating reconstruction by considering etching anisotropy and abnormal errors in optical scatterometry

机译：通过考虑蚀刻各向异性和光学散射中的异常误差来改进深蚀刻多层光栅的重构

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Accurate, fast, and nondestructive reconstruction of the etched nanostructures is important for etching process control to achieve good fidelity, as well as high manufacturing yield. In this work, we have demonstrated the improved deep-etched multilayer grating reconstruction by simultaneously considering the model error of nonuniform side-wall angle (SWA) because of different etching anisotropies of various materials and by suppressing the abnormally distributed measurement errors using a robust statistics based method in optical scatterometry. More specifically, we introduce an additional parameter to perfect the profile model under measurement, and use a robust estimation procedure at the end of each iteration of the Gauss-Newton (GN) method to obtain the more accurate parameter departure vector. By applying the proposed methods, more accurate reconstructed results can be achieved. c 2015 Optical Society of America
机译：蚀刻后的纳米结构的准确，快速且无损的重建对于控制蚀刻过程以实现良好的保真度以及较高的生产良率非常重要。在这项工作中，我们通过同时考虑由于各种材料的蚀刻各向异性而引起的非均匀侧壁角（SWA）的模型误差，以及通过使用稳健的统计数据来抑制异常分布的测量误差，证明了改进的深蚀刻多层光栅重构散射法中的基于方法的方法。更具体地说，我们引入了一个附加参数来完善正在测量的轮廓模型，并在高斯-牛顿（GN）方法的每次迭代结束时使用鲁棒的估计程序来获得更准确的参数偏离向量。通过应用提出的方法，可以实现更准确的重建结果。 c 2015美国眼镜学会

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