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首页> 外文期刊>Physica, B. Condensed Matter >Substrate effect on texture properties of nanocrystalline TiO2 thin films
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Substrate effect on texture properties of nanocrystalline TiO2 thin films

机译：衬底对纳米晶TiO2薄膜织构特性的影响

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Titanium oxide (TiO2) nanocrystalline thin films have been grown on different substrates LaAlO3 (0 0 1) and alpha-Al2O3 (0 0 0 1) by dc magnetron sputtering in an Ar+O-2 gas mixture. Pure rutile or anatase or mixed (rutile and anatase) phase of TiO2 can be grown at fixed sputtering pressure and substrate temperature on various substrates. XRD and TEM studies of the films deposited at fixed pressure of 2 X 10(-2) Torr and substrate temperature of 650 degrees C revealed that preferred (0 0 4) oriented anatase phase was observed in case of films grown over LaAlO3 substrates and rutile phase with preferred (2 0 0) orientation was observed in case of films deposited over the sapphire substrate. The results indicate that the film growth direction is highly affected with nature of substrate and substrate orientation. Further, AFM and FESEM images showed that nanostructured TiO2 films could be grown on all substrates.
机译：通过在Ar + O-2气体混合物中进行直流磁控溅射，在不同的衬底LaAlO3（0 0 1）和alpha-Al2O3（0 0 0 1）上生长了二氧化钛（TiO2）纳米晶体薄膜。 TiO2的纯金红石或锐钛矿或混合（金红石和锐钛矿）相可以在固定的溅射压力和基板温度下在各种基板上生长。对在2 X 10（-2）Torr的固定压力和650摄氏度的基底温度下沉积的薄膜进行XRD和TEM研究表明，在LaAlO3基底和金红石上生长薄膜的情况下，观察到了优选的（0 0 4）取向锐钛矿相在将薄膜沉积在蓝宝石衬底上的情况下，观察到具有优选（2 0 0）取向的相。结果表明，膜的生长方向受基材性质和基材取向的影响很大。此外，AFM和FESEM图像显示纳米结构的TiO2薄膜可以在所有基板上生长。

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