...
  • 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Physica, B. Condensed Matter >Intrinsic embrittlement of MoSi2 and alloying effect on ductility: Studied by first-principles
【24h】

Intrinsic embrittlement of MoSi2 and alloying effect on ductility: Studied by first-principles

机译：MoSi2的内在脆化和合金化对延展性的影响：第一性原理研究

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

The electronic structure, surface energy (gamma(s)), unstable stacking fault energy (gamma(us)), and the elastic parameters of MoSi2 and (Mo,M)Si-2 (M = Nb, Tc, Ta, W) are calculated using first-principles method. The influence of alloying elements on ductility is assessed by combining a "disembrittlement parameter" D-gamma(x)/gamma(us) and elastic properties. Ideal MoSi2 Crystal investigation shows that the intrinsic brittlement is caused by strong directional covalent Mo4d-Si3p bonding. MoSi2 (001) Si-vertical bar-Si plane, which has lower surface energy is preferred cleavage plane. W alloying embrittles MOSi2. Nb, Tc, and Ta alloying are found to be beneficial to the enhancement of ductility. The softening effect can be interpreted by the replacement of Mo4d-Si3p bonding by weaker and less directional bonding.
机译：电子结构，表面能（gamma），不稳定堆垛层错能（gamma（us））以及MoSi2和（Mo，M）Si-2的弹性参数（M = Nb，Tc，Ta，W）使用第一原理方法计算。合金元素对延展性的影响是通过结合“解禁参数”D-γ（x）/γ（us）和弹性特性来评估的。理想的MoSi2晶体研究表明，固有脆性是由强方向性共价Mo4d-Si3p键引起的。具有较低表面能的MoSi 2（001）Si-垂直条-Si平面是优选的解理平面。 W合金脆化MOSi2。 Nb，Tc和Ta合金化被发现有助于延展性的提高。可以通过用较弱且定向性较小的键代替Mo4d-Si3p键来解释软化效果。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号