Triangular-tiled arrangement of 7x7 and '1x1' domains on Si(111)

Hibino H.; Ogino T.; Homma Y.

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Triangular-tiled arrangement of 7x7 and '1x1' domains on Si(111)

机译：Si（111）上7x7和'1x1'域的三角形平铺排列

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Ultrahigh-vacuum scanning electron microscopy reveals the presence of an ordered domain pattern with threefold symmetry on Si(111). During the transition between 7 x 7 and '1 x 1' phases on a Si(111) surface misoriented to [11 (2) over bar], triangular 7 x 7 domains nucleate at the upper edge of the step, and grow into the terrace. When the apex of the domain reaches the lower edge, the 7 x 7 and '1 x 1' domains form a triangular-tiled arrangement. This triangular-tiled arrangement is explained in terms of elastic-stress relaxation effects. [S0163-1829(98)50236-6]. [References: 21]

机译：超高真空扫描电子显微镜显示在Si（111）上具有三重对称性的有序畴图案的存在。在Si（111）表面上的7 x 7和'1 x 1'相之间的过渡期间，未正确定向为[11（2）over bar]，三角形7 x 7畴在台阶的上边缘成核，并长大到阳台。当畴的顶点到达下边缘时，7 x 7和“ 1 x 1”畴形成三角形平铺排列。根据弹性应力松弛效应来解释这种三角形平铺布置。 [S0163-1829（98）50236-6]。 [参考：21]

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来源
《Physical Review, B. Condensed Matter》 |1998年第12期|共9页
作者
Hibino H.; Ogino T.; Homma Y.;
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