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Alkaline-Developable, Chemically Amplified, Negative-Type Photosensitive Polyimide Based on Polyhydroxyimide, a Crosslinker, and a Photoacid Generator

机译：基于聚羟基酰亚胺，交联剂和光致产酸剂的碱性可显影化学放大负型光敏聚酰亚胺

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A chemically amplified photosensitive polyimide based on polyhydroxyimide (PHI) from cyclobutane-tetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)bis(2-aminophenol), 4,4'-methylenebis[2,6-bis (hydroxymethyl)phenol] (MBHP) as a crosslinker, and (5-propylsulfonyloxyimino-5H-thiophen-2-ylidene)-(2-methyl- phenyl)acetonitrile (PTMA) as a photoacid generator was developed to obtain the abilities of low temperature patterning, low dielectric constant, and high sensitivity. The chemically amplified photosensitive polyimide, consisting of PHI (70 wt%), MBHP (20 wt%), and PTMA (10 wt%), showed a high sensitivity (DO.5) of 5.9 mJ/cm(2) and a good contrast (gamma(0.5)) of 3.9, respectively, producing a clear negative-tone line-and-space pattern with 6-mu m resolution. Furthermore, the chemically amplified photosensitive polyimide showed a high transparency in the i-line region and a low dielectric constant of 2.54.
机译：基于环丁烷-四羧酸二酐和4,4'-（六氟异亚丙基）双（2-氨基苯酚），4,4'-亚甲基双[2,6-双（羟甲基）苯酚]的聚羟基酰亚胺（PHI）的化学放大光敏聚酰亚胺开发了MBHP）作为交联剂，并开发了（5-丙基磺酰氧基亚氨基-5H-噻吩-2-亚基）-（2-甲基-苯基）乙腈（PTMA）作为光酸产生剂，以获得低温构图，低介电常数的能力，并且灵敏度高。化学放大的光敏聚酰亚胺由PHI（70 wt％），MBHP（20 wt％）和PTMA（10 wt％）组成，显示出5.9 mJ / cm（2）的高灵敏度（DO.5）和良好的感光度。对比度（gamma（0.5））分别为3.9，可产生具有6微米分辨率的清晰的负线条和空间图案。此外，化学放大的光敏聚酰亚胺在i-线区域中显示出高透明性并且具有2.54的低介电常数。

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