• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Journal of Applied Polymer Science >Synthesis and photopolymerization of phosphonic acid monomers for applications in compomer materials
【24h】

Synthesis and photopolymerization of phosphonic acid monomers for applications in compomer materials

机译：膦酸单体的合成和光聚合，用于复合材料

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

Novel methacrylate monomers bearing phosphonic acid groups 1 and 2 as well as new sulfur methacrylates 9 and 10 have been prepared in good yields from thiophenol. They have been fully characterized by ~1H-NMR, ~(13)C-NMR, ~(31)P-NMR, and HRMS. Their copolymerization with a bis-GMA: TEGDMA (1 : 1) blend has been investigated with photodifferential scanning calorimetry at 50°C with camphorquinone as a photoinitiator and ethyl 4-(dimethylamino)benzoate (EDAB) as a coinitiator. The higher the content of acidic monomer 1 or 2 incorporated in the bis-GMA : TEGDMA (1 : 1) blend, the lower the mixtures reactivity. The phosphonic acid group has been proved to be responsible for this drop of reactivity.
机译：由苯硫酚以高收率制备了带有膦酸基团1和2的新型甲基丙烯酸酯单体，以及新型的甲基丙烯酸硫酯9和10。它们已经通过〜1H-NMR，〜（13）C-NMR，〜（31）P-NMR和HRMS进行了充分表征。用樟脑醌作为光引发剂和4-（二甲基氨基）苯甲酸乙酯（EDAB）作为共引发剂，在50℃下通过光差扫描量热法研究了它们与bis-GMA：TEGDMA（1：1）共混物的共聚。结合在bis-GMA：TEGDMA（1：1）混合物中的酸性单体1或2的含量越高，混合物的反应性越低。已证明膦酸基团是造成这种反应性下降的原因。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号