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机译:通过第一性原理pseudo势计算预测的半导体包合物M_8Si_(38)A_8(M = Na,K,Rb,Cs; A = Ga,Al,In)的理想晶体带隙的化学趋势
Silicon-clathrate; Semiconductor; K_8Si_(38)Ga_8; Electronic structure;
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机译:石墨BC_2N中的层间堆叠和电子带隙的性质:第一性原理pseudo势计算
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机译:用于制备纳米晶体半导体金属硒化型薄膜的可控化学沉积技术的研制 - 一种控制带间隙能量的可能途径和半导体纳米材料的其他相关参数
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机译:伪电位计算的验证固体电子带隙
机译:半导体包合物中带隙的化学趋势