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首页> 外文期刊>Electrochimica Acta >Holographic interferometric microscopy for measuring Cu2+ concentration profile during Cu electrodeposition in a magnetic field
【24h】

Holographic interferometric microscopy for measuring Cu2+ concentration profile during Cu electrodeposition in a magnetic field

机译：全息干涉测量显微镜测量Cu2 +浓度曲线在磁场中的Cu电沉积期间

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We measured the concentration boundary layer during copper electrodeposition in a copper sulfate solution under an applied magnetic field. Using a holographic laser interference microscope, we demonstrated the formation of the diffusion layer near the cathode. In the initial stage of electrodeposition, the diffusion layer was distorted in a magnetic field. An analysis of the electrode surface concentration supported the following assertions: without a magnetic field, dendrites formed when the surface concentration of Cu2+ was depleted; with a magnetic field, the unique convection phenomena of the field gradient force and localized Lorentz force promoted Cu2+ mass transport in the diffusion layer, producing large crystal grains. (C) 2018 Elsevier Ltd. All rights reserved.
机译：在施加的磁场下，在硫酸铜溶液中测量铜电沉积期间的浓度边界层。 使用全息激光干扰显微镜，我们证明了在阴极附近的扩散层的形成。 在电沉积的初始阶段，扩散层在磁场中变形。 对电极表面浓度的分析支持以下断言：没有磁场，当Cu2 +的表面浓度耗尽时形成的树突状; 利用磁场，场梯度力和局部洛伦兹力的独特对流现象促进了扩散层中的Cu2 +质量传输，产生大晶粒。 （c）2018年elestvier有限公司保留所有权利。

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