Univ Michigan Appl Phys Ann Arbor MI 48109 USA;
Univ Michigan Dept Elect Engn &
Comp Sci Ann Arbor MI 48109 USA;
NIST Ctr Nanoscale Sci &
Technol Gaithersburg MD 20899 USA;
Univ Michigan Dept Elect Engn &
Comp Sci Ann Arbor MI 48109 USA;
Univ Michigan Appl Phys Ann Arbor MI 48109 USA;
Kyungpook Natl Univ Sch Mech Engn 80 Daehak Ro Daegu 41566 South Korea;
Univ Michigan Appl Phys Ann Arbor MI 48109 USA;
plasmonic; interference lithography; photo roller lithography; next generation lithography; nano-manufacturing;
机译:等离子体辊光刻
机译:等离子体参数对等离子体计算光刻中7-nm图案的影响
机译:紫外线光刻系统用于滚筒模具的数字制造
机译:等离子纳米孔的等离子光刻建模和近场测量
机译:纳米球光刻及其在等离子体经济氢化非晶硅光伏器件的快速经济制造中的应用。
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构