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Focused-helium-ion-beam blow forming of nanostructures: radiation damage and nanofabrication

机译：纳米结构的聚焦氦离子束吹割成型：辐射损伤和纳米制备

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Targeted irradiation of nanostructures by a finely focused ion beam provides routes to improved control of material modification and understanding of the physics of interactions between ion beams and nanomaterials. Here, we studied radiation damage in crystalline diamond and silicon nanostructures using a focused helium ion beam, with the former exhibiting extremely long-range ion propagation and large plastic deformation in a process visibly analogous to blow forming. We report the dependence of damage morphology on material, geometry, and irradiation conditions (ion dose, ion energy, ion species, and location). We anticipate that our method and findings will not only improve the understanding of radiation damage in isolated nanostructures, but will also support the design of new engineering materials and devices for current and future applications in nanotechnology.
机译：通过精细聚焦离子束针对纳米结构照射提供途径，以改善材料改性的控制和对离子束和纳米材料之间的相互作用物理学的控制。 这里，我们使用聚焦氦离子束研究了结晶金刚石和硅纳米结构的辐射损伤，前者在吹吹形成过程中表现出极长的离子传播和大的塑性变形。 我们报告了损伤形态对材料，几何形状和辐射条件（离子剂量，离子能，离子物种和位置）的依赖性。 我们预计我们的方法和发现不仅会改善对孤立纳米结构的辐射损伤的理解，而且还将支持新的工程材料和设备的设计，以便在纳米技术中的电流和未来应用。

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