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Nano-bridged nanosphere lithography

机译：纳米桥接纳米光刻

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We develop nano-bridged nanosphere lithography (NB-NSL), a modification to the widely used conventional nanosphere lithography (NSL). Nano-bridges between polystyrene (PS) spheres of a pristine NSL template are controllably formed in a two-step process: (i) spin-coating of a dilute styrene solution on top of the template, followed by (ii) oxygen plasma etching of the template. We show that the nanobridge dimensions can be precisely tuned by controlling the pre-processing conditions and the plasma etching time. The resulting lithography templates feature control over the shape and size of the apertures, which determine the morphology of the final nano-island arrays after material deposition and template removal. The unique advantage of NB-NSL is that PS particle templates based on a single PS particle diameter can be utilized for the fabrication of a variation of nano-island shapes and sizes, whereas conventional NSL yields only bowtie-shaped nano-islands, with their size being predetermined by the PS particle diameter of the template.
机译：我们开发纳米桥接纳米光刻（NB-NSL），对广泛使用的常规纳米光刻（NSL）进行修改。在两步法中可控地形成丙烯（PS）的聚苯乙烯（PS）球之间的纳米桥：（i）在模板顶部的稀苯乙烯溶液的旋涂，其次是（ii）氧等离子体蚀刻模板。我们表明可以通过控制预处理条件和等离子体蚀刻时间来精确调谐纳米芯片尺寸。由此产生的光刻模板对孔的形状和尺寸进行了控制，其在材料沉积和模板去除后确定最终纳米岛阵列的形态。 NB-NSL的独特优点是基于单个PS粒径的PS粒子模板可用于制造纳米岛形状和尺寸的变化，而常规NSL仅产生弓形纳米岛，其由模板的PS粒径预先确定的尺寸。

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