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Achieving extremely high optical contrast of atomically-thin MoS2

机译：实现原子薄MOS2极高的光学对比度

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Extraordinarily high optical contrast is instrumental to research and applications of two-dimensional materials, such as, for rapid identification of thickness, characterisation of optical properties, and quality assessment. With optimal designs of substrate structures and light illumination conditions, unprecedented optical contrast of MoS2 on Au surfaces exceeding 430% for monolayer and over 2600% for bilayer is achieved. This is realised on custom-designed substrates of near-zero reflectance near the normal incidence. In particular, by using an aperture stop to restrict the angle of incidence, high-magnification objectives can be made to achieve extraordinarily high optical contrast in a similar way as the low-magnification objectives, but still retaining the high spatial resolution capability. The technique will allow small flakes of micrometre size to be located easily and identified with great accuracy, which will have significant implications in many applications.
机译：非常高的光学对比度是有助于研究和应用二维材料，例如，用于快速识别厚度，光学性质表征和质量评估。 通过基板结构和光照射条件的最佳设计，实现了MOS2对单层超过430％的MOS2的前所未有的光学对比度，并且双层超过2600％。 这是在正常发病率附近的定制设计近零反射率的基板上实现。 特别地，通过使用光圈停止来限制入射角，可以使高倍率目标以与低倍率目标类似的方式实现非常高的光学对比度，但仍然保持高空间分辨率能力。 该技术将允许微米尺寸的小薄片容易地定位并以极高的准确性识别，这将在许多应用中产生重大影响。

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