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Model of frequency-modulated atomic force microscopy for interpretation of noncontact piezoresponse measurements

机译：频率调制原子力显微镜模型解释非接触式压电响应测量

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A model to describe the behavior of the probe of an atomic force microscope (AFM) operated in frequency modulation (FM) dynamic mode with constant excitation (CE) is developed, with the aim of describing recent experiments after the introduction of a noncontact piezoresponse force microscopy (PFM) method based on such an operation mode, named CE-FM-PFM (Labardi et al 2020 Nanotechnology 31, 075707). The model provides insight into improving the accuracy of converse piezoelectric coefficient (d(33)) measurements on the local scale in this PFM mode. Its rather general applicability helps to quantify the residual electrostatic contribution in local piezoresponse measurements by AFM, which is anticipated to be strongly mitigated in the CE-FM-PFM compared to the more standard contact-mode PFM.
机译：一种模型，用于描述在频率调制（FM）动态模式下操作的原子力显微镜（AFM）的行为的模型是开发的，其目的是在引入非接触式压电响应力之后描述最近的实验 基于这种操作模式的显微镜（PFM）方法，名为CE-FM-PFM（Labardi等2020纳米技术31,075707）。 该模型提供了在该PFM模式下提高局部刻度上的逆转压电系数（D（33））测量的精度的洞察。 其相当一般的适用性有助于量化AFM的局部压电响应测量中的残留静电贡献，其预计与更标准的接触模式PFM相比，预计将在CE-FM-PFM中强烈减轻。

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