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机译:充电补偿机制,有利于将EU3 +离子掺入ZnO宿主格子中
Univ Mascara Lab Phys Matiere &
Modelisat Math LPQ3M Mascara Algeria;
Univ Mascara LMAE Mascara Algeria;
Univ Mascara Lab Phys Matiere &
Modelisat Math LPQ3M Mascara Algeria;
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Modelisat Math LPQ3M Mascara Algeria;
Univ Mascara Lab Phys Matiere &
Modelisat Math LPQ3M Mascara Algeria;
ZnO:Eu3+; Photoluminescence; Charge compensation; Electronic structure calculations; GGA plus U;
机译:充电补偿机制,有利于将EU3 +离子掺入ZnO宿主格子中
机译:氧化物铁电体的缺陷结构—价态,结合位点,电荷补偿机制和内部偏置场
机译:ZnO主体晶格中Sc3 +离子的结合和取代动力学的稳定性和形态学依赖性
机译:Zno-Znte纳入纳米射流电荷运输机制研究
机译:ADAM10过表达异常调节Notch信号,有利于髓样来源的抑制细胞(MDSC)积累,后者根据免疫刺激和与肥大细胞的相互作用来差异性地调节宿主反应。
机译:ZnO纳米晶向Eu3 +离子的能量转移机理研究
机译:校正:ZnO纳米膦烯+掺入引起的高温铁磁性及其顺磁相变化
机译:稀土离子 - 主体晶格相互作用。 1.在scheelites中的点电荷格子和,