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A facile surface-etching route to thin films of metal iodides

机译：对金属碘化物薄膜的简便表面蚀刻工艺

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A facile surface-etching approach was developed for the synthesis of CuI, PbI2, and AgI thin films. Tetrahedral-shaped CuI crystals were formed on a variety of copper substrates (e.g., grids, flat or porous foils, and macro- or nanowires) via an interfacial reaction between a copper substrate and iodine in water at room temperature. A possible mechanism was proposed to explain the growth of tetrahedral-shaped CuI single crystals. The resulting materials were characterized by transmission electron microscopy (TEM), powder X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), selected area electron diffraction (SAED), energy-dispersive X-ray (EDX) spectroscopy, Raman spectroscopy, and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). This preparation approach can also be used to grow PbI2 and AgI nano- and microcrystals with different morphologies on corresponding substrates.
机译：开发了一种简便的表面蚀刻方法来合成CuI，PbI2和AgI薄膜。通过在室温下水中的铜基底和碘之间的界面反应，在各种铜基底（例如，栅格，扁平或多孔箔以及宏观或纳米线）上形成四面体形状的CuI晶体。提出了一种可能的机理来解释四面体形状的CuI单晶的生长。通过透射电子显微镜（TEM），粉末X射线衍射（XRD），扫描电子显微镜（SEM），选择区域电子衍射（SAED），能量色散X射线（EDX）光谱，拉曼光谱对所得材料进行表征，以及X射线光电子能谱（XPS）。这种制备方法还可用于在相应的基底上生长具有不同形态的PbI2和AgI纳米和微晶。

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