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首页> 外文期刊>Fortschritt-Berichte VDI, Reihe 1. Konstruktionstechnik / Maschinenelemente >Analyse des Sputter- und Transportprozesses mittels Monte-Carlo-Simulation
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Analyse des Sputter- und Transportprozesses mittels Monte-Carlo-Simulation

机译：利用蒙特卡罗模拟分析溅射和运输过程

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Die meisten Studien in der Schichtentwicklung beschr?nken sich auf eine Betrachtung des Zusammenhangs zwischen Prozessparametern und der Schichtstruktur und sehen den Herstellungsprozess als Blackbox-System an. Aufgrund dieser Vereinfachung wird über den Einfluss der Prozessgr??en Teilchenfluss, Teilchenenergie und Einfallswinkel schichtbildender Teilehen im Bereich der MoS2-Sehichten bislang allenfalls spekuliert (siehe z. B. /268/). Die Wichtigkeit dieser Gr??en ist für die Schichtbildung aber ?u?erst bedeutsam. Beispielsweise erachten MAHIEU et al. /150/ nach intensiven Studien des Sputterprozesses die Wechselwirkung zwischen den energetischen Gr??en des Teilchenstroms und den Schichtmerkmalen als essentiell um ein elementares und nachhaltiges Prozessverst?ndnis zu erlangen.
机译：考虑到过程参数与层结构之间的关系，考虑到大多数转变开发的研究，并将制造过程视为黑色盒子系统。 由于这种简化，到目前为止，最多推测了MOS2视觉区域中的过程尺寸颗粒流，粒子能量和入射角的影响，（参见Z. / 268 /） 。 这种尺寸的重要性是用于层形成但是？你？第一个重要。 例如，Mahieu等人。 / 150 /在溅射过程的密集学生之后，粒子流的能量大小与层特征之间的相互作用，这是获得基本和可持续的过程理解的必然。

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