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Diffusion of Rb atoms in paraffin-coated resonant vapor cells

机译：RB原子在石蜡涂覆的共振蒸汽细胞中的扩散

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We present the results of a study of the diffusion of Rb atoms in paraffin-coated resonant vapor cells. We have modeled the Rb diffusion both in the cell and in the coating, assuming that the main loss of Rb atoms is due to the physical absorption of the atoms by the glass substrate. It is demonstrated that the equilibrium of atomic density in the cell is a monotonic function of the thickness of the paraffin coating: the density increases with an increase in the thickness of the coating. The diffusion coefficient for rubidium in paraffin thin films has been determined to be equal to 5 x 10(-7) cm(2)/s. The results of the experiment might provide for a better understanding of the processes involved in the interaction of alkali atoms with a paraffin coating and atomic diffusion in resonant vapor cells.
机译：我们介绍了对石蜡涂覆的共振蒸气细胞中RB原子的扩散的研究结果。 假设RB原子的主要损失是由于原子的物理吸收由玻璃基板的物理吸收，我们已经建模了涂层中的RB扩散。 结果表明，细胞中的原子密度平衡是石蜡涂层厚度的单调函数：密度随涂层厚度的增加而增加。 已经确定石蜡薄膜中的铷中的扩散系数等于5×10（-7）cm（2）/ s。 实验结果可以更好地理解碱原子与石蜡涂层和共振蒸汽细胞中的原子扩散所涉及的过程。

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