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首页> 外文期刊>Journal of Photopolymer Science and Technology >High Power LPP-EUV Source with Long Collector Mirror Lifetime for Semiconductor High Volume Manufacturing
【24h】

High Power LPP-EUV Source with Long Collector Mirror Lifetime for Semiconductor High Volume Manufacturing

机译：高功率LPP-EUV源具有长集电极镜终型的半导体高卷制造

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We have developed Pilot #1 system for HVM EUV lithography. Pilot#1 is up running and it demonstrates HVM capability. We achieved following performances at present; High conversion efficiency 4.5% is realized with Pre-pulse technology. High speed (>90 m/s) & small (20 micron) droplet is realized. High power CO2 laser power level is 20 kW. Output power 250 W in-burst power @50% duty (125 W average) several min. Pilot#1 system achieved potential of 89% availability (2 weeks) at 125 W average power. -0.6%/Gpls with 125 W average was demonstrated during 30 Mpls with mirror test.
机译：我们开发了用于HVM EUV光刻的飞行员＃1系统。 导频＃1已启动运行，并展示HVM功能。 我们目前的表演达成; 使用预脉冲技术实现高转换效率4.5％。 实现高速（> 90米/秒）和小（20微米）液滴。 高功率二氧化碳激光功率电平为20千瓦。 输出功率250 W在突发的电源@ 50％占空比（平均125英寸）几分钟。 导频＃1系统在125 W平均功率下实现了89％可用性（2周）的潜力。 在30MPLS的镜面试验期间，在30MPLS期间对具有125V平均值的0.6％/ GPLS。

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