首页> 外文期刊>Радиотехника >Влияние глубоких уровней в буферном слое на характеристики транзисторов и малошумящих усилителей при воздействии импульсов
【24h】

Влияние глубоких уровней в буферном слое на характеристики транзисторов и малошумящих усилителей при воздействии импульсов

机译:在暴露于脉冲时,缓冲层对缓冲层深度水平对晶体管和低噪声放大器特性的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Оценены характерные глубины ионизации и времена перезарядки глубоких уровней в малошумящих полевых транзисторах при подаче на их вход импульса мощности в зависимости от параметров транзистора, мощности импульса и сечений захвата электронов. Предложена простая методика по оценке изменения коэффициента шума транзистора в рабочем режиме под воздействием зондирующих импульсов СВЧ-мощности на входе по изменению коэффициента усиления тока стока. На основании измерений проведены оценки для группы транзисторов, Продемонстрировано, что в некоторых случаях коэффициент шума транзистора под воздействием импульса допустимой входной мощности может увеличиваться более чем вдвое, По полученным оценкам и экспериментальным данным рассчитано влияние паразитной проводимости по буферному слою на характеристики малошумящих транзисторных усилителей при униполярном и двухполярном питании.
机译:当根据晶体管的参数中,脉冲的功率和电子的横截面被供应的功率脉冲电离和在低噪声场晶体管的深能级的充电时间的特征的深度估计。提出了一种简单的方法,通过改变电流的流动系数的流动来估计声电源功率脉冲在输入的影响下在操作中的晶体管的噪声系数的变化。上的测量的基础上,估计估计用于晶体管组,证明,在某些情况下可允许的输入功率的脉冲的影响下,该晶体管的噪声系数可以增加超过尽可能两次,根据所估计的估计值和实验数据,在缓冲层上的寄生导电性的影响,计算上的低噪声晶体管放大器的单极和两个极性营养特性。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号