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机译:CZOCHRALSKI由外部磁场控制的熔体对流
Hiroyuki Ozoe;
机译:外部磁场控制的直拉熔体对流
机译:晶体硅锭定向凝固过程中控制熔体对流的行进磁场参数研究
机译:通过3D全局计算分析磁场对直拉硅生长中熔体对流的影响
机译:具有稳定和旋转磁场的化合物半导体晶体的液体封装Czochralski生长。
机译:外部场控消融:磁场
机译:利用行进磁场控制熔体对流
机译:用行波磁场控制熔体对流
机译:用于控制单晶硅锭的CZOCHRALSKI推拉器,方法是控制在合金熔体界面的中心和边缘处的温度梯度,用于CCHOCHRALSKI推拉器的挡热板以及对CCHOCHRALSKI推拉器的修改方法
机译:直拉晶体生长过程使用相互正交的电流和穿过熔体的磁场
机译:用于磁控制直拉单晶的电磁线圈和磁控制直拉单晶的方法
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