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【24h】

薄膜磁気デバイスの高性能化に向けた新磁性材料開発·高品位薄膜作製技術～ハードディスクドライブ（HDD）用磁気再生素子を例に～

机译：〜新的磁材料的开发和高品质的薄膜制造技术 - 对硬盘驱动器（HDD），用于朝向所述薄膜磁性器件的性能，例如磁重放元件

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摘要

近年の情報化社会の発展はめざましく，今後5年間で記録しておくべき情報量が2000EB（エキサバイト：1EB＝1000PB（ペタバイト）＝100万TB（テラバイト）＝10億GB（ギガバイト））にまで膨れ上がることが予想されている．そのため，ハードディスクドライブ（HDD）において，2016年ごろには現在の5～10倍の記録密度5Tbit/inch~2の実現が求められている．その高密度化に伴い，磁気再生素子において，再生時の低エラーレートを維持しながら素子サイズを微小化（5 Tbit/inch~2において再生素子幅：20nm以下·再生素子全膜厚：20nm以下）しなければならない．
机译：最近的信息社会的发展是令人担忧的，并且在未来五年内记录的信息量是2000 EB（挖掘：1EB = 1000PB（Petabyte）= 100万TB（Tberabyte）= 10亿英镑（千兆字节））是预计会膨胀。 因此，在硬盘驱动器（HDD）中，需要在2016年实现5至10次的5 Tbit /英寸至2的记录密度。 通过致密化，元件尺寸是最小化的，同时在磁再生元件（5 Tbit /英寸宽度：20nm或再生元素的少于/全膜厚度为20nm或更小。）必须。

著录项

  • 来源
    《化学工業》 |2010年第7期|共6页
  • 作者

    吉村　哲;

  • 作者单位

    秋田大学大学院工学資源学研究科附属環境資源学研究センター;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 化学工业;
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