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【24h】

薄膜磁気デバイスの高性能化に向けた新磁性材料開発·高品位薄膜作製技術～ハードディスクドライブ（HDD）用磁気再生素子を例に～

机译：用于高性能薄膜磁器件的新型磁性材料的开发-高质量薄膜制造技术-硬盘驱动器（HDD）的磁再生元件示例-

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近年の情報化社会の発展はめざましく，今後5年間で記録しておくべき情報量が2000EB（エキサバイト：1EB＝1000PB（ペタバイト）＝100万TB（テラバイト）＝10億GB（ギガバイト））にまで膨れ上がることが予想されている．そのため，ハードディスクドライブ（HDD）において，2016年ごろには現在の5～10倍の記録密度5Tbit/inch~2の実現が求められている．その高密度化に伴い，磁気再生素子において，再生時の低エラーレートを維持しながら素子サイズを微小化（5 Tbit/inch~2において再生素子幅：20nm以下·再生素子全膜厚：20nm以下）しなければならない．
机译：近年来，信息社会的发展令人瞩目，未来5年要记录的信息量高达2000EB（例如：1EB = 1000PB（PB）= 1百万TB（TB）= 10亿GB（千兆字节））。预计会膨胀。因此，在硬盘驱动器（HDD）中，要求实现5 Tbit / inch〜2的记录密度，这是2016年左右当前记录密度的5至10倍。随着密度的增加，减小了磁性再现元件的尺寸，同时保持了再现期间的低错误率（再现元件宽度：5 Tbit / inch〜2时再现元件宽度：20 nm以下，再现元件的总厚度：20 nm以下）。 ）必须。

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