Интеркаляция лития в тонкие пленки аморфного кремния

著录项

• 来源
  《Физика и техника полупроводников》 |2006年第4期|共3页
• 作者

  Т.Л.Кулова; А.М.Скундин; Ю.В.Плесков; О.И.Коньков; Е.И.Теруков; И.Н.Трапезникова; T. L. Kulova; A. M. Skundin; Yu. V. Pleskov; O. I. Konkov; E. I. TerukoV; I. N. Trapeznikova;

  展开▼
• 作者单位

  Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук 119071 Москва Россия;

  Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук 119071 Москва Россия;

  Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук 119071 Москва Россия;

  Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

  Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

  Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

  Frumkin Institute of Electrochemistry Russian Academy of Sciences 119071 Moscow Russia;

  Frumkin Institute of Electrochemistry Russian Academy of Sciences 119071 Moscow Russia;

  Frumkin Institute of Electrochemistry Russian Academy of Sciences 119071 Moscow Russia;

  loffe Physicotechnical Institute Russian Academy of Sciences 194021 St. Petersburg Russia;

  Frumkin Institute of Electrochemistry Russian Academy of Sciences 119071 Moscow Russia;

  loffe Physicotechnical Institute Russian Academy of Sciences 194021 St. Petersburg Russia;

  展开▼
• 收录信息
• 原文格式 PDF
• 正文语种 rus
• 中图分类 半导体物理学;
• 关键词