...
首页> 外文期刊>クリ-ンテクノロジ-: クリ-ン化技術の専門誌 >低温および低基板ダメージ成長による酸化物薄膜: 異種材料基板上機能性酸化物薄膜を実現する成長装置
【24h】

低温および低基板ダメージ成長による酸化物薄膜: 異種材料基板上機能性酸化物薄膜を実現する成長装置

机译:氧化物薄膜通过低温和低底物损伤生长:一种生长装置,其在异质材料基材上实现功能性氧化物薄膜

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

本稿では、低温成膜(基板温度≦200°C)および低温表面加工(プロセス最高温度250≦°C)、そして低基板ダメージ(薄膜/基板界面粗さ(X線反射法(ATXG ㈱リガク社製))による分析結果)がほぼ1nm(nm:千分の1マイクロメートル)以下)を可能とさせるPVDの1種である反応性プラズマ蒸着法(Reactive Plasma Deposition: RPD)に焦点を絞り、際立つ特徴を解説する。目的はRPDによって成膜あるいは加工された金属酸化物薄膜が呈する機能の特徴と課題とを低温·低基板ダメージの観点から明確にすることである。
机译:本文,低温膜形成(衬底温度≤200℃)和低温表面处理(工艺最高温度250≤°C)和低底板损伤(薄膜/基板界面粗糙度(ATXG Co.,Ltd。分析结果通过)))是单个NM(nm:1微米为1微米)或更小的)聚焦在反应性等离子体沉积方法(RPD)上,并且通过解释的方式表征。 目的是从低温和低底物损伤的观点来看,阐明通过RPD表现出的功能的特性和问题或由加工金属氧化物薄膜的功能。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号