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Electrophysiological correlates of visual backward masking in patients with bipolar disorder

机译：双相障碍患者视觉落后掩蔽的电生理相关性

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In visual backward masking (VBM), a target is followed by a mask that decreases target discriminability. Schizophrenia patients (SZ) show strong and reproducible masking impairments, which are associated with reduced EEG amplitudes. Patients with bipolar disorder (BP) show masking deficits, too. Here, we investigated the neural EEG correlates of VBM in BP. 122 SZ, 94 unaffected controls, and 38 BP joined a standard VBM experiment. 123 SZ, 94 unaffected controls and 16 BP joined a corresponding EEG experiment, analyzed in terms of global field power. As in previous studies, SZ and BP show strong masking deficits. Importantly and similarly to SZ, BP show decreased global field power amplitudes at approximately 200 ms after the target onset, compared to controls. These results suggest that VBM deficits are not specific for schizophrenia but for a broader range of functional psychoses. Potentially, both SZ and BP show deficient target enhancement.
机译：在视觉后向掩蔽（VBM）中，目标后面跟着一个降低目标可分辨性的掩蔽。精神分裂症患者（SZ）表现出强烈且可重复的掩蔽损伤，这与EEG振幅降低有关。双相情感障碍（BP）患者也表现出掩蔽缺陷。在这里，我们研究了BP中VBM的神经EEG相关性。122名SZ、94名未受影响的对照组和38名BP加入了标准的VBM实验。123名SZ、94名未受影响的对照组和16名BP的受试者加入了相应的脑电图实验，并根据整体场功率进行了分析。与之前的研究一样，SZ和BP表现出强烈的掩蔽缺陷。重要的是，与SZ相似，与对照组相比，BP在靶点出现后约200ms显示整体场功率振幅降低。这些结果表明，VBM缺陷并不是精神分裂症特有的，而是更广泛的功能性精神病。SZ和BP都有潜在的靶向增强缺陷。

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