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【24h】

Development of micromachining technology in ion microbeam system at TIARA, JAEA.

机译:JAEA TIARA的离子微束系统微加工技术的开发。

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摘要

An ion-beam-lithography technique has been progressed in the microbeam systems at Japan Atomic Energy Agency (JAEA) Takasaki. In order to obtain a high-precision measure for microbeam size estimation with a high precision, we applied this technique combined with the electroplating process to make a Ni relief pattern as a resolution standard used in secondary electron imaging. As a result, the smallest beam size could be recorded. The scattering of ions in the materials influenced the spatial resolution and this is also discussed.
机译:日本原子能机构(JAEA)高崎的微束系统中已经开发了一种离子束光刻技术。为了获得高精度的微束尺寸估算方法,我们将该技术与电镀工艺相结合,将镍浮雕图案作为二次电子成像中使用的分辨率标准。结果,可以记录最小的光束尺寸。材料中离子的散射影响了空间分辨率,对此也进行了讨论。

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