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【24h】

Photosensitive GeO_(2)-SiO_(2) films for ultraviolet laser writing of channel waveguides and Bragg gratings with Cr-loaded waveguide structure

机译：GeO_（2）-SiO_（2）感光膜，用于Cr加载波导结构的沟道波导和布拉格光栅的紫外激光写入

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Irradiation with intense ultraviolet laser pulses induced a large refractive-index change in 30GeO_(2)-70SiO_(2) waveguide-grade thin films prepared by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, which contained a large amount of photoactive Ge~(2+) defects. The maximum index change in the as-deposited films by KrF and XeF excimer laser irradiation was estimated to be 1.2×10~(-3) and 0.28×10~(-3), respectively. These results clearly indicate that the photorefractivity of GeO_(2)-SiO_(2) glasses is due to a Ge~(2+) defect in origin. The channel waveguide and the planar Bragg gratings were directly written in the photoactive Ge~(2+)-enriched GeO_(2)-SiO_(2) thin films by pulsed ultraviolet laser irradiation with a Cr-metal-loaded-type waveguide structure.
机译：强烈的紫外激光脉冲辐射在通过等离子增强化学气相沉积法制备的30GeO_（2）-70SiO_（2）波导级薄膜中引起了较大的折射率变化，该薄膜中含有大量的光敏Ge〜（2 +）缺陷。通过KrF和XeF准分子激光辐照沉积薄膜的最大折射率变化估计分别为1.2×10〜（-3）和0.28×10〜（-3）。这些结果清楚地表明，GeO_（2）-SiO_（2）玻璃的光折光性归因于原始的Ge〜（2+）缺陷。通过Cr-金属负载型波导结构的脉冲紫外激光辐照，将通道波导和平面布拉格光栅直接写入富光Ge_（2+）的GeO_（2）-SiO_（2）薄膜中。

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  • 来源
    《Applied optics》 |2003年第22期|共5页
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  • 正文语种 eng
  • 中图分类 光学;
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