• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Applied optics >Test of Opticlean strip coating material for removing surface contamination
【24h】

Test of Opticlean strip coating material for removing surface contamination

机译：Opticlean带状涂层材料去除表面污染的测试

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

The strip coating material, Opticlean, which has been reformulated, has been shown to remove 1-5-μm-diameter particles as well as contamination remaining from previous drag wipe cleaning on a used silicon wafer. In addition, no residue that produced scattering was found on a fresh silicon wafer when Opticlean was applied and then stripped off. The total integrated scattering technique used for the measurements could measure scattering levels of He-Ne laser light as low as a few ppm (parts in 10~(6)), corresponding to a surface roughness of <1 A rms.
机译：经过重新配制的条状涂层材料Opticlean已显示出去除了直径为1至5微米的颗粒以及先前用过的硅片上的刮擦清洁残留的污染物的能力。此外，在使用Opticlean然后将其剥离后，在新的硅晶片上未发现产生散射的残留物。用于测量的总集成散射技术可以测量低至几ppm（10〜（6）的分量）的He-Ne激光的散射水平，对应于<1 A rms的表面粗糙度。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号