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新建屋で半導体第8世代に対応

机译：新建筑支持第 8 代半导体

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電化皮膜工業（神奈川県大和市下草柳、秋本政弘社長）は本社·大和工場を再構築する。 来年2月の完成予定で、建屋を全面的に建て替えるとともに、設備も一新。硬質·染色アルマイト主力の工場とする。第7世代、第8世代の半導体·液晶製造装置用部材にも対応する大型処理設備を新設する。 また、大和工場に近接する大和第二工場も拡張、クロムフリーのアルミ·マグネ化成処理、マグネ陽極酸化設備を設置する。 六価クロムは欧州で06年7月以降、その使用が禁止になるなど、規制が世界的に広がりつつあることに対応、環境に配慮した処理設備を設ける。 大和工場は敷地面積約230坪に、一部3階建て·延床面積約400坪の新建屋を建設する。 導入する硬質アルマイト、染色アルマイト設備は、槽の大きさが長さ4000×幅1200×深さ2800mm。 通常のアルマイトに比べて不純物の溶出を大幅に低減する半導体専用の処理工程も設け、第7世代までの半導体製造装置用大型部材の処理も行う。 その後、深さを3800mmまで拡張し、第8世代にも対応可能とする。
机译：Denka Film Industry（神奈川县大和市柳市下草，总裁秋本正弘）将重建总部和大和工厂。 计划于明年2月完工，大楼将全面重建，设施将更新。 主要工厂是硬质和染色阳极氧化。 该公司将建设一个新的大型加工设施，可以处理第7代和第8代半导体和液晶制造设备的组件。 此外，与大和工厂相邻的大和2工厂将进行扩建，以安装无铬铝磁铁化学转化和磁铁阳极氧化设备。 为了应对全球法规的传播，例如自 2006 年 7 月起在欧洲禁止使用六价铬，我们将建立环保处理设施。 大和工厂将在占地约230坪的基础上建造总建筑面积约400坪的新厂房。 引进的硬质阳极氧化染色阳极氧化设备的尺寸为长4,000毫米×宽1,200毫米×深2,800毫米。 此外，还提供了与普通阳极氧化相比可显著减少杂质洗脱的半导体专用加工工艺，并加工用于半导体制造设备（最高至第7代）的大型元件。 随后，深度将扩展到 3800 毫米，从而可以支持第 8 代。

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