Effect of process parameters on properties of argon-nitrogen plasma for titanium nitride film deposition (vol 31, 061307, 2013)

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• 来源
  《Journal of Vacuum Science & Technology, A. Vacuum, Surfaces, and Films》 |2014年第4期|共1页
• 作者

  Saikia Partha; Kakati Bharat;

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• 作者单位

  Inst Plasma Res, Ctr Plasma Phys, Kamrup 782402, Assam, India;

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• 收录信息
• 原文格式 PDF
• 正文语种 英语
• 中图分类 真空电子学（电子物理学）;
• 关键词