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Modeling the Growth of Thin-Film Surfaces

机译:模拟薄膜表面的生长

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摘要

Simulation of the growth of thin-film surfaces is considered. A brief review of the existing approaches and models is made. An original model of the growth of thin-film surfaces is proposed, which comprises a stochastic cellular automat and enables one to study the influence of the substrate temperature and the deposition rate and time on the parameters characterizing the morphology of the surface. The results of the modeling are compared with the data of atomic-force microscopy of experimentally produced thin films.
机译:考虑薄膜表面生长的模拟。对现有方法和模型进行了简要回顾。提出了一种薄膜表面生长的原始模型,该模型包括一个随机的细胞自动机,使人们能够研究衬底温度,沉积速率和时间对表征表面形态的参数的影响。将建模结果与实验生产的薄膜的原子力显微镜数据进行比较。

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