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Chemical stability of graphene fluoride produced by exposure to XeF _2

机译：暴露于XeF _2产生的氟化石墨烯的化学稳定性

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Fluorination can alter the electronic properties of graphene and activate sites for subsequent chemistry. Here, we show that graphene fluorination depends on several variables, including XeF_2 exposure and the choice of substrate. After fluorination, fluorine content declines by 50-80% over several days before stabilizing. While highly fluorinated samples remain insulating, mildly fluorinated samples regain some conductivity over this period. Finally, this loss does not reduce reactivity with alkylamines, suggesting that only nonvolatile fluorine participates in these reactions.
机译：氟化可以改变石墨烯的电子性质，并激活后续化学反应的位点。在这里，我们表明石墨烯氟化取决于几个变量，包括XeF_2暴露和底物的选择。氟化后，在稳定之前的几天中，氟含量下降了50-80％。虽然高度氟化的样品保持绝缘，但是在此期间中度氟化的样品恢复了一定的电导率。最后，这种损失不会降低与烷基胺的反应性，表明只有不挥发的氟参与了这些反应。

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