• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Nanotechnology >Patterning colloidal monolayer films using microcontact particle stripping
【24h】

Patterning colloidal monolayer films using microcontact particle stripping

机译：使用微接触粒子剥离图案化胶体单层膜

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

We combined the basic component of microcontact printing ( mu CP), the use of an elastomeric stamp to transfer a pattern, with colloidal lithography, a parallel technique to obtain arrays of nanostructures at surfaces. This novel method, entitled microcontact particle stripping ( mu CPS), uses a stamp to selectively remove the pre-adsorbed particles located in the contact regions, leaving the particles in the non-contact regions unaffected. The particles, in the nanopatterned regions, can further be used as a lithographic mask.
机译：我们将微接触印刷（mu CP）的基本组件，使用弹性体印模转移图案的方法与胶体光刻技术（一种并行技术，用于在表面获得纳米结构的阵列）相结合。这种名为微接触颗粒剥离（μCPS）的新方法使用印模有选择地去除位于接触区域中的预吸附颗粒，而使非接触区域中的颗粒不受影响。纳米图案化区域中的颗粒可以进一步用作光刻掩模。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号