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Reconfigurable shadow mask technology: a microsystem for metal nanoline deposition

机译：可重构阴影掩模技术：用于金属纳米线沉积的微系统

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Reconfigurable shadow mask technology, presented in this paper, introduces the use of microsystems for in situ metal deposition, and direct patterning of structures with micron and submicron lateral and vertical dimensions. A multilayer microstructure acts as a set of addressable active shutters and shadow masks in a physical vapour deposition (PVD) system. Design and fabrication of a microactuator allowing submicron controlled displacements combined with the development of a novel self-aligned multilayer fabrication process allows the deposition of metal nanolines using standard photolithographic exposure tools. Not only does this approach remove the need for nanolithography, it also enables compositional and three-dimensional active in situ variation of the nanolines during deposition. Atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM) are used to characterize three-dimensional structures and deposited nanolines.
机译：本文介绍的可重构荫罩技术介绍了使用微系统进行原位金属沉积，以及对具有微米和亚微米横向和垂直尺寸的结构进行直接构图。多层微结构在物理气相沉积（PVD）系统中充当一组可寻址的主动快门和荫罩。允许亚微米级控制位移的微致动器的设计和制造与新型自对准多层制造工艺的发展相结合，可以使用标准的光刻曝光工具来沉积金属纳米线。这种方法不仅消除了对纳米光刻的需求，而且还使沉积过程中纳米线的成分和三维主动原位变化成为可能。原子力显微镜（AFM）和扫描电子显微镜（SEM）用于表征三维结构和沉积的纳米线。

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