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【24h】

Contacting individual Fe(110) dots in a single electron-beam lithography step

机译：在单个电子束光刻步骤中接触单个Fe（110）点

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We report on a new approach, entirely based on an electron-beam lithography technique, to contact electrically, in a four-probe scheme, single nanostructures obtained by self-assembly. In our procedure, nanostructures of interest are located and contacted in the same fabrication step. This technique has been developed to study the field-induced reversal of an internal component of an asymmetric Bloch domain wall observed in elongated structures such as Fe(110) dots. We have focused on the control, using an external magnetic field, of the magnetization orientation within Néel caps that terminate the domain wall at both interfaces. Preliminary magneto-transport measurements are discussed demonstrating that single Fe(110) dots have been contacted.
机译：我们报告了一种完全基于电子束光刻技术的新方法，该方法以四探针方案电接触通过自组装获得的单个纳米结构。在我们的程序中，感兴趣的纳米结构在同一制造步骤中被定位并接触。这项技术已被开发来研究在诸如Fe（110）点的细长结构中观察到的非对称Bloch域壁的内部组件的场诱导反转。我们已经集中研究了使用外部磁场控制Néel帽内磁化方向的方法，该帽在两个界面处都终止了畴壁。讨论了初步的磁传输测量，表明已经接触了单个Fe（110）点。

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