首页> 外文期刊>Nanotechnology >Phosphorus doping of ultra-small silicon nanocrystals
【24h】

Phosphorus doping of ultra-small silicon nanocrystals

机译:超小型硅纳米晶的磷掺杂

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

P-doped Si nanocrystals (radius <= 2 nm) were synthesized by depositing an ultrathin (0.3 nm) P-SiO2 film close to each SiO layer of SiO/SiO2 multilayers. During annealing P atoms migrate into the Si-rich region. Due to the low diffusivity of P in SiO2, P atoms segregate in the Si nanocrystal region and are incorporated in the silicon nanostructures. The P level in the Si nanoclusters can be controlled by changing the P content in the P-SiO2 layer.
机译:通过在SiO / SiO2多层膜的每个SiO层附近沉积一个超薄(0.3 nm)P-SiO2膜来合成P掺杂的Si纳米晶体(半径<= 2 nm)。在退火过程中,P原子迁移到富硅区域。由于P在SiO2中的扩散率低,P原子偏析在Si纳米晶体区域中,并结合到硅纳米结构中。可以通过改变P-SiO 2层中的P含量来控制Si纳米簇中的P水平。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号