• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Nanotechnology >Proximity field nanopatterning of azopolymer thin films
【24h】

Proximity field nanopatterning of azopolymer thin films

机译：偶氮聚合物薄膜的近场纳米构图

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

A method for inscribing surface relief gratings in azopolymer thin films via proximity field nanopatterning is reported. Azopolymers prepared by ring opening metathesis polymerization were cast as thin films and brought into conformal contact with transparent polydimethylsiloxane phase masks. Irradiation of the film surface through the phase masks induces mass transport of azopolymer that generates surface relief structures on the basis of the intensity modulation of the light by structures on the phase mask. The experimental images obtained matched well with those produced by optical simulation. A wide variety of structures could be inscribed in the film surface which depended on the molecular weight of the azopolymer and irradiation time. Control experiments conducted suggest that the process is entirely photonic and that the presence of the phase mask on the film surface did not affect the inscription process.
机译：报道了一种通过邻近场纳米图案在偶氮聚合物薄膜中刻出表面起伏光栅的方法。通过开环复分解聚合制备的偶氮聚合物被流延成薄膜，并与透明的聚二甲基硅氧烷相掩模共形接触。通过相掩模对膜表面的辐照引起偶氮聚合物的质量传输，该偶氮聚合物基于由相掩模上的结构对光的强度调制而产生表面浮雕结构。获得的实验图像与通过光学模拟产生的图像非常匹配。取决于偶氮聚合物的分子量和照射时间，可以在膜表面上刻上各种各样的结构。进行的对照实验表明，该过程完全是光子过程，并且膜表面上存在相掩模不会影响刻印过程。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号