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Fabrication of nanostripe surface structure by multilayer film deposition combined with micropatterning

机译：多层膜沉积结合微图案技术制备纳米条纹表面结构

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Top-down fabrication processes for nanostructures are superior to bottom-up processes from the aspect of long-range order, but have limitations in their processing time and/or material selection. Here we developed a nanopatterning method for 'nanostripes' that incorporates deposition of a multilayer film on a microscale slope array and mechanical polishing. This method is used to fabricate a nanostripe structure consisting of two kinds of materials to form a stripe array on a silicon substrate. Although this nanopatterning method is categorized as a top-down fabrication process, the fabrication efficiency is quite high, because the number of nanostripes is 'multiplied' by the number of multilayered films. Another feature of the nanostripe is renewability; even if the nanostripe surface is damaged, the underlying nanostructure can be exposed and form a similar nanostripe by polishing. The nanostripe structure can be easily applied to a wide range of fields due to its ease of production.
机译：从长距离有序的角度来看，纳米结构的自上而下的制造工艺优于自下而上的工艺，但是在加工时间和/或材料选择上存在局限性。在这里，我们开发了一种用于“纳米带”的纳米图案化方法，该方法将多层膜在微尺度斜率阵列上的沉积与机械抛光相结合。该方法用于制造由两种材料组成的纳米条结构，以在硅基板上形成条纹阵列。尽管这种纳米图案化方法被归类为自上而下的制造过程，但是由于纳米带的数量“乘以”多层膜的数量，因此制造效率相当高。纳米带的另一个特点是可再生性。即使纳米条纹表面被损坏，也可以暴露出下面的纳米结构并通过抛光形成类似的纳米条纹。纳米条结构由于其易于生产而可以容易地应用于广泛的领域。

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