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Fabrication of arrays of sub-wavelength nano-apertures in an optically thick gold layer on glass slides for optical studies

机译：在载玻片上光学厚的金层中制备亚波长纳米孔阵列，用于光学研究

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We report on the fabrication of two-dimensional arrays of nano-optical apertures in gold layers by electron beam lithography (EBL) on a transparent glass substrate. 30 x 30 /zm2 large arrays of high aspect ratio sub-wavelength cylinders (400 nm diameter with period of 1.81 mu m) and annular apertures (diameters 250/330 nm and 310/330 nm inner/outer with period of 600 nm) were patterned in a 750 nm thick resist layer using a high contrast negative tone resist. The resist structures show sharp and vertical edges after development. The 150 nm thick deposited gold layer ensures optical transmission of less than 1.1 x 10~(-4) at 633 nm wavelength. White light based optical characterizations agreed with theory predictions and prove the good quality of the structures.
机译：我们报告在透明玻璃基板上通过电子束光刻（EBL）在金层中的纳米光学孔径的二维阵列的制造。高纵横比亚波长圆柱（直径为400 nm，周期为1.81μm）和环形孔（直径为250/330 nm和310/330 nm，内/外周期为600 nm）的30 x 30 / zm2大阵列是使用高对比度负色调抗蚀剂在750 nm厚的抗蚀剂层中进行图案化。显影后，抗蚀剂结构显示出尖锐和垂直的边缘。 150 nm厚的沉积金层可确保在633 nm波长下的光透射小于1.1 x 10〜（-4）。基于白光的光学表征与理论预测相符，证明了结构的优良品质。

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