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【24h】

Fabrication of silicon dioxide submicron channels without nanolithography for single biomolecule detection

机译：没有纳米光刻的二氧化硅亚微米通道的制备，用于单个生物分子检测

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We successfully fabricated nanochannel arrays with silicon dioxide (SiO2) surfaces for single biomolecule detection. The SiO2 nanochannel fabrication is based on the combination of anisotropic etching by potassium hydroxide (KOH) solution, local oxidation of silicon (LOCOS) and plasma etching of silicon. This fabrication technique is easily controllable and is a simple and practical solution for low-cost and high-throughput fabrication of nanofluidic channels. Thus, this technique enables the generation of nanochannels with various nanoscale dimensions without using nanolithography.
机译：我们成功地制造了具有二氧化硅（SiO2）表面的纳米通道阵列，用于单个生物分子的检测。 SiO2纳米通道的制造基于氢氧化钾（KOH）溶液的各向异性蚀刻，硅的局部氧化（LOCOS）和硅的等离子体蚀刻的结合。该制造技术易于控制，并且是纳米流体通道的低成本和高通量制造的简单实用的解决方案。因此，该技术使得能够在不使用纳米光刻的情况下产生具有各种纳米尺度尺寸的纳米通道。

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