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【24h】

Nanopattern formation using a chemically modified PS-P4VP diblock copolymer

机译：使用化学改性的PS-P4VP二嵌段共聚物形成纳米图案

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A slight betainization of the amphiphilic block copolymer polystyrene-block-poly(4-vinylpyridine) (PS-P4VP) was carried out by the introduction of 1,3-propane sultone into the P4VP block. The micellar film cast from the new copolymer solution exhibited hexagonal packing which is similar to the copolymer film prior to modification. An interesting core-corona inversion was induced in situ with water, a selective solvent for P4VP, due to the increased water sensitivity. The effect of annealing on a PS-P4VP-sultone micellar film was investigated both with and without solvent environment. The latter gives rise to a reduction in the nanodot dimension while the former leads to the formation of a nanostrand morphology. This procedure thus adds a simple yet effective tool for controlling pattern formation.
机译：通过将1，3-丙烷磺酸内酯引入P4VP嵌段中，对两亲嵌段共聚物聚苯乙烯-嵌段-聚（4-乙烯基吡啶）（PS-P4VP）进行轻微的甜化。由新的共聚物溶液浇铸的胶束膜表现出六方堆积，这类似于改性之前的共聚物膜。由于对水的敏感性增加，用水（P4VP的选择性溶剂）原位诱导了一个有趣的核电晕转化。在有和没有溶剂环境下，都研究了退火对PS-P4VP-磺内酯胶束薄膜的影响。后者导致纳米点尺寸的减小，而前者导致纳米链形态的形成。因此，该过程增加了用于控制图案形成的简单而有效的工具。

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