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首页> 外文期刊>Nanotechnology >Localized oblique-angle deposition: Ag nanorods on microstructured surfaces and their SERS characteristics
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Localized oblique-angle deposition: Ag nanorods on microstructured surfaces and their SERS characteristics

机译：局部斜角沉积：微结构表面上的Ag纳米棒及其SERS特性

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In this paper, we demonstrate a simple and convenient method of depositing Ag nanorods on a substrate inside a standard evaporation chamber with the substrate resting on a leveled stage. Microstructuring the substrate prior to the deposition imparts a large incidence angle (>70°) between the collimated vapor atoms and the local surface normal, which is essential to induce the shadowing effect. Thereby, a localized oblique-angle deposition (LOAD) is realized, forming nanorods selectively on the steep sidewalls of surface microcavities patterned via standard photolithography and silicon dry etching. We also demonstrate that these nanorods can boost SERS activity of the underlying substrate and thus perform comparable to those fabricated via advanced patterning techniques or conventional OAD whereby the entire substrate has to be tilted with respect to the incident vapor atoms. Our results suggest the viability of decorating microchannel sidewalls with SERS-active nanorods for integrated sample processing and SERS detection.
机译：在本文中，我们演示了一种简单且方便的方法，可以在标准蒸发室内的基板上沉积Ag纳米棒，并使基板放置在水平平台上。在沉积之前对基板进行微结构化处理会在准直的蒸气原子和局部表面法线之间产生较大的入射角（> 70°），这对于产生阴影效应至关重要。由此，实现了局部倾斜角沉积（LOAD），在通过标准光刻和硅干法刻蚀图案化的表面微腔的陡峭侧壁上选择性地形成纳米棒。我们还证明了这些纳米棒可以增强下层基板的SERS活性，因此其性能可与通过先进的图案化技术或常规OAD制造的纳米棒相比，从而整个基板必须相对于入射蒸气原子倾斜。我们的结果表明用SERS活性纳米棒修饰微通道侧壁以进行集成样品处理和SERS检测的可行性。

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