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A deep sub-wavelength process for the formation of highly uniform arrays of nanoholes and nanopillars

机译：用于形成高度均匀的纳米孔和纳米柱阵列的深亚波长过程

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We report a low-cost and high-throughput process for the realization of two-dimensional arrays of deep sub-wavelength features using silica and polystyrene spheres. The pattern size in this method is a weak function of sphere size, and hence excellent size uniformity is achievable. Also, the period and diameter of the holes and pillars formed with this technique can be controlled precisely and independently. Moreover, the patterns can be formed in conventional negative and positive photoresists, and hence this approach is compatible with a wide range of existing processing methods. Although we achieved hole sizes of similar to 250 nm with a broadband UV source centered at 400 nm, our simulation results show that patterns as small as 180 nm should be achievable at a wavelength of 365 nm.
机译：我们报告了一种低成本和高通量的过程，用于使用二氧化硅和聚苯乙烯球体实现深亚波长特征的二维阵列。该方法中的图案尺寸是球尺寸的弱函数，因此可以获得优异的尺寸均匀性。而且，可以精确且独立地控制用该技术形成的孔和柱的周期和直径。此外，可以在常规的负性和正性光致抗蚀剂中形成图案，因此该方法与广泛的现有处理方法兼容。尽管我们使用以400 nm为中心的宽带UV源获得了接近250 nm的孔径，但我们的仿真结果表明，在365 nm的波长下应可实现小至180 nm的图案。

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