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Precise Ge quantum dot placement for quantum tunneling devices

机译:用于量子隧穿设备的精确Ge量子点放置

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摘要

This study demonstrates the precise placement of Ge quantum dots (QDs) in an SiO2 or Si3N4 matrix in a self-organized manner by thermally oxidizing SiGe in nanostructures. The effectiveness of this method is shown by a variety of geometries including nanotrenches, nanorods and polygonal nanocavities. Modulating the structural geometry and peripheral spacer materials effectively places a single Ge QD in the center of an oxidized SiGe nanostructure or individual QDs at the corners (edges). This study also reports the fabrication of Ge QD single-electron devices that exhibit clear Coulomb staircases and differential conductance oscillations at room temperature.
机译:这项研究通过热氧化纳米结构中的SiGe,以自组织的方式展示了Ge量子点(QD)在SiO2或Si3N4基质中的精确放置。这种方法的有效性通过各种几何形状(包括纳米沟槽,纳米棒和多边形纳米腔)得以展示。调节结构的几何形状和外围间隔材料可有效地将单个Ge QD放置在氧化的SiGe纳米结构的中心,或将单个QD放置在拐角(边缘)。这项研究还报告了Ge QD单电子器件的制造,该器件在室温下表现出清晰的库仑阶梯和微分的电导振荡。

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