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Recent Developments in the Fabrication of Ordered Nanostructure Arrays Based on Nanosphere Lithography

机译：基于纳米球光刻技术的有序纳米结构阵列制备的最新进展

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Since it was invented two decades ago, Nanosphere Lithography (NSL) has been widely studied as a low cost and flexible technique to fabricate nanostructures. Based on the registered patents and some selected papers, this review will discuss recent developments of different NSL strategies for the fabrication of ordered nanostructure arrays. The mechanism of self-assembly process and the techniques for preparing the self-assembled nanosphere template are first briefly introduced. The nanosphere templates are used either as shadow masks or as moulds for pattern transfer. Much more work now combines NSL with other lithographic techniques and material growth methods to form novel nanostructures of complex shape or various materials. Hence, this review finally gives a discussion on some future directions in NSL study.
机译：自从二十年前发明以来，纳米球光刻（NSL）作为制造纳米结构的一种低成本且灵活的技术已得到广泛研究。基于已注册的专利和一些精选的论文，本综述将讨论用于制造有序纳米结构阵列的不同NSL策略的最新进展。首先简要介绍了自组装过程的机理和制备自组装纳米球模板的技术。纳米球模板既可以用作荫罩，也可以用作图案转移的模具。现在，还有更多工作将NSL与其他光刻技术和材料生长方法结合起来，以形成形状复杂或材料多样的新型纳米结构。因此，这篇综述最终讨论了NSL研究中的一些未来方向。

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