Les depots sont elabores par pulverisation magnetron radiofrequence (13,56 MHz) a partir de cibles composites de diametre 51 mm constituees d'une couronne d'aluminium massif dans laquelle est insere un disque de fer massif. Cette configuration permet une approche simple du controle de la composition en fer des depots. Le porte-substrat est place parallelement a l'emetteur et sa temperature n'excede pas 400 K. Le gaz plasmagene (argon N55) est introduit par l'intermediaire d'un debitmetre massique prealablement etalonne (l'unite de debit est le normo-centimetre cube par minute: sccm). La pression de travail dans l'enceinte est controlee par l'intermediaire d'une jauge de type M.K.S. Baratron. La pulverisation s'effectue a puissance r.f. constante. Les conditions standard d'elaboration des depots aluminium-fer sont rassemblees dans le tableau I. Les substrats en verre sont initialement nettoyes dans un bain de trichlorethylene porte a ebullition place dans une cuve a ultrasons puis rinces a l'alcool et seches a l'air chaud. Enfin, un decapage ionique in situ, precedant la phase de depot, constitue la derniere etape. Celle-ci s'effectue grace a une polarisation r.f. des substrats et conditionne l'adherence des depots,
展开▼
