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【24h】

Effects of Ag-ion implantation on the performance of DSSCs with a tri-layer TiO2 film

机译：Ag离子注入对三层TiO2薄膜DSSCs性能的影响

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Tri-layer titania films were doped with Ag ions using MEVVA ( metal vapor vacuum arc) ion-implantation, and characterized for photovoltaic performance in dye-sensitized solar cells ( DSSCs). The current density was significantly improved with the increasing numbers of implanted Ag-ions. The highest energy-efficiency of 5.85% was achieved for the modified DSSCs by Ag-ion implantation with 1 x 10(16) atom per cm(-2). The enhancement effect of Ag-ion implantation on photoelectric performance of the DSSCs contributed toward the decrease in charge-transfer resistance and enhancement of dye adsorption. In addition, the Ag-doping induced an impurity level, which reduces the recombination rate of electrons and positively shifts the conduction band edge of titania to match the LUMO level of the dye.
机译：使用MEVVA（金属蒸气真空电弧）离子注入法将三层二氧化钛薄膜掺杂了Ag离子，并对其在染料敏化太阳能电池（DSSC）中的光伏性能进行了表征。随着注入的Ag离子数量的增加，电流密度显着提高。通过以每厘米2的1 x 10（16）原子进行Ag离子注入，改性的DSSC达到了5.85％的最高能量效率。 Ag离子注入对DSSCs光电性能的增强作用有助于降低电荷转移电阻并增强染料吸附。另外，Ag掺杂引起杂质水平，这降低了电子的复合率并且使二氧化钛的导带边缘正向移动以匹配染料的LUMO能级。

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