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首页> 外文期刊>Optics Letters >Very low-refractive-index optical thin films consisting of an array of SiO_(2) nanorods
【24h】

Very low-refractive-index optical thin films consisting of an array of SiO_(2) nanorods

机译：SiO_（2）纳米棒阵列组成的低折射率光学薄膜

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The refractive-index contrast in dielectric multilayer structures, optical resonators, and photonic crystals is an important figure of merit that creates a strong demand for high-quality thin films with a low refractive index. A SiO_(2) nanorod layer with low refractive index of n velence 1.08, to our knowledge the lowest ever reported in thin-film materials, is grown by oblique-angle electron-beam deposition of SiO_(2). A single-pair distributed Bragg reflector employing a SiO_(2) nanorod layer is demonstrated to have enhanced reflectivity, showing the great potential of low-refractive-index films for applications in photonic structures and devices.
机译：介电多层结构，光学谐振器和光子晶体中的折射率对比是一个重要的品质因数，对低折射率的高质量薄膜产生了强烈的需求。通过倾斜角电子束沉积SiO_（2），可以生长出折射率为1.08的低折射率SiO_（2）纳米棒层，据我们所知，这是薄膜材料中报道的最低值。已证明采用SiO_（2）纳米棒层的单对分布式布拉格反射器具有增强的反射率，显示出低折射率膜在光子结构和器件中的巨大潜力。

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