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Bulk Instability of Nickel Disilicide at Reduced Temperatures

机译:低温下二硅化镍的整体失稳

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摘要

Bulk alloy annealing experiments indicate that a NiSi + Si reversible NiSi_2 eutectoid reaction exists in the Ni-Si binary system between 705 and 735 deg C. The eutectoid temperature is consistent with temperatures often observed for the nickel monosilicide-to-disilicide transformation in nickel silicide thin films on crystalline silicon substrates.
机译:大块合金退火实验表明,在705至735摄氏度之间,Ni-Si二元体系中存在NiSi + Si可逆NiSi_2共析反应。共析温度与硅化镍中单硅化镍向二硅化转变的温度一致。晶体硅基板上的薄膜。

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