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Sputter deposition and analysis of thin film Nitinol/Terfenol-D multilaminate for vibration damping

机译：用于减振的薄膜镍钛诺/特芬诺尔-D多层板的溅射沉积和分析

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Nitinol/silicon laminates and Nitinol/Terfenol-Dickel laminates were sputter deposited and characterized using x-ray diffraction (XRD), wavelength dispersive spectrometry (WDS), and a SQUID (superconducting quantum interference device). Dynamic testing showed substantial damping (tan delta) measurable in each laminate. An analytical model of a heterogeneous layered thin film damping material was also developed. Parametric studies with the analytical model illustrate the effect of combining Terfenol-D and Nitinol to create a broadband damping laminate with relatively constant tan delta for strain values between 0.05% and 1%. The model also illustrates the importance of relative stiffness on the damping of multilayer laminates, i.e. relatively high stiffness damping materials such as Terfenol-D and Nitinol may be superior to lower stiffness visco-elastics.
机译：溅射沉积镍钛诺/硅层压板和镍钛诺/特芬诺尔-D /镍层压板，并使用X射线衍射（XRD），波长色散光谱（WDS）和SQUID（超导量子干涉装置）对其进行表征。动态测试表明，每个层压板均具有可观的阻尼（tanδ）。还建立了非均质层状薄膜阻尼材料的分析模型。使用分析模型进行的参数研究表明，结合使用Terfenol-D和Nitinol来创建具有相对恒定tanδ且应变值介于0.05％和1％之间的宽带阻尼层压材料。该模型还说明了相对刚度对多层层压板阻尼的重要性，即相对高刚度的阻尼材料（例如Terfenol-D和Nitinol）可能会优于较低刚度的粘弹性。

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